得到了专业人士的肯定，两位老总脸上的表情更加欣喜，看向江辰的眼神也愈发满意。
他们仿佛看到了公司未来的光明前景，对江辰的创新能力充满了信心。
“其实不止是euv光刻技术，”
江辰微笑着继续说道
“我还有几种光刻技术的设想，也都可以说一说。”
他顿了顿，开始详细阐述
“例如纳米压印光刻，这是一种类似打印机的技术。
我们通过在模具上刻上纳米电路的图案，然后将其压在硅片的感光材料上，通过紫外线照射完成转印。
这种技术的精度至少有2纳米，对于提高生产效率有着显着的优势。”
“还有电子束光刻机，”
江辰接着介绍
“这是用高能电子束替代极紫外线的技术。电子对应的波长更是只有004纳米，因此其精度更高。
不过，由于精度高，但是生产速度相对较慢，还有改进的空间。”
他看了一眼听众，发现他们都在认真倾听，于是继续说道
“最后还有自组装光刻技术，这是使用化学物质诱导光刻材料在硅片上自发组成所需结构的方法。
这种技术的分辨率高，并且加工速度不受影响。但是，它对材料控制的要求非常高，目前还处在实验室阶段。”
江辰的每一句话都充满了创新的火花，让在场的所有人都为之动容。
原以为他能够解决euv光刻技术就已经非常天才了，没想到他还有其他几种光刻技术的设想。
既然他能够堂而皇之地将这些技术说出来，那么肯定是有理论和实验依据作为支撑的。
这场会议让大家对于江辰的技术能力非常信服。
对于euv光刻技术，他们都已经深入研究过，因此深知这项技术的极限是在3纳米。
这是一个难以突破的瓶颈，也是未来技术发展的一个重要节点。
根据摩尔定律和最近十几年的半导体发展历程来看，每18到24个月，集成电路上可以容纳的晶体管数目就会增加一倍。
简而言之，处理器的性能大约每两年就会翻一倍，同时价格也会下降到之前的一半。
这是一个不可逆转的趋势，也是推动科技不断进步的重要力量。
然而，3纳米的极限看似很远，但实际上很快就会摸到上限。
目前的纳米制程还停留在45纳米，按照各家的推算，不需十年最晚十五年时间就会达到极限。
并且根据大家的研究来看，euv光刻技术的优势主要在于7纳米到14纳米这个阶段。
在这个阶段，它的性能和成本都相对较为优越。
但是，随着制程的不断缩小，研发成本会呈指数级上升，这使得继续研发euv光刻技术变得完全不合算。
因此，不止研发euv光刻技术，寻找新的、更具成本效益的光刻技术去触摸更高精度制程已经成为行业的共识。
如今，江辰提出了精度更高的其他光刻技术，这无疑为两家光刻制造企业带来了新的希望和机遇。
他们当然也想要这些技术，以便在未来的竞争中占据先机。
不过还没等两位老总把话说出口，就被其他人打断了。
“到现在为止，我们说的都是光刻环节的问题，但其实其他公司都还嗷嗷待哺，等着听您的高见呢。”
“江总，既然您已经解决了光刻环节的问题，那相信在刻蚀、光刻胶乃至存储技术方面，您肯定也有成熟的方案吧。
不妨一起说说吧，让我们也听听您的全面规划。”
这个人的话语中充满了期待和急切，显然对江辰的技术实力充满了信心和期待。
这番话语也引起了在场其他人的共鸣，其余众人都纷纷点头表示赞同，希望江辰能够继续分享他的技术见解和规划。
而后，江辰也陆续分享了自己手中掌握的一系列技术。
例如，他讲解了刻蚀技术的先进工艺，这是一项对半导体衬底表面或表面覆盖的薄膜进行选择性腐蚀或剥离的关键技术。
在芯片制造的众多环节中，它被视为第二大技术难点，对于提升芯片的性能和良率至关重要。
除此之外，江辰还分享了关于光刻胶的信息。
光刻胶是一种在紫外光照射或辐射下，其溶解度会发生变化的耐蚀剂刻蚀磨料。
在光刻工艺中，它被用作抗腐蚀涂层，是制造过程中的核心材料，对于实现精细的电路图案转移起着决定性作用。
不仅如此，江辰手中还掌握着其余生产环节的各种技术，无一不备，展现了他在半导体技术领域的深厚积累。
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